產業痛點

  • 粒徑分布分析的現行困境

傳統訊號式的粒徑分布檢測方式,當需要檢測濃度高的液體時,常會遇到粒子間訊號互相干擾,導致數據結果與預期中不同、數據不可靠,但卻無法更進一步探討問題發生之原因。

以電子廠的CMP Slurry化學機械拋光漿料為例。為了控管每次研磨效率及成品品質,需要可以針對尺寸計數的工具來檢測目前製程狀態。由下圖可知:不同的研磨次數(#1、#2、#3對應研磨1至3次),粒子尺寸的趨勢會慢慢改變並達到一個平衡數值。別於傳統粒徑分布檢測技術,AI影像式粒徑分析結合Sizer與Counter兩大重點功能,可同時針對粒子尺寸與粒子數量進行分析,取代過去粒徑分布分析方法,成為強而有力的問題對策工具。

邑流應用

  • AI影像式粒徑分布分析得優勢

若粒徑分布範疇僅針對粒子尺寸及數量進行分析,市面上原本就已經有許多相似功能的產品。而AI影像式粒徑分布分析設備不僅可針對例子尺寸&數量,更可針對液態樣品中的微汙染物檢測。透過100%全景深擷取的特殊設計,並藉由高階AI影像辨識技術,正確分辨出汙染物是結晶、粉塵或毛絮,進而排除特定的幾個可能汙染源。

 

 

 

 

 

 

 

可由上圖中得知,除粒徑資訊外,AI影像式粒徑分布分析設備還提供了粒子真圓度與長度資訊。長度則是針對如針狀物或棉絮等粒子,描述最長邊的長度資訊。此外還有標準差、變異係數及D-Value等統計資訊可以提供操作者一份完整的粒徑分布報告。【更多資訊請與我們聯繫】