產業痛點

  • 耗費預算&人力成本，無法作後續歷史資料追蹤

不論哪個產業，品質絕對是業者和消費者皆很在意的環節之一。尤其是半導體以及製造業產業鏈。隨著線寬愈作愈小，半導體零件清洗製程中，去離子水的潔淨度對於良率而言至關重要。然而目前技術卻還是很難做到多點位濕製程材料的即時性微汙染監測。

若工廠端要同時進行多點量測，往往需耗費大量預算或人力成本。再者，現行相關檢測技術僅能記錄液體中是否有異物或異常等瑕疵，無法進一步協助使用者建立生產品質履歷，作後續歷史資料追蹤，更遑論比對良率與製程液體微汙染物之關聯性。

邑流應用

  • 有效提升水洗製程的效率 & 良率

基於現行的檢測瓶頸，我們瞭解多點位即時監測的對於產能與良率的重要性。為滿足國內半導體封裝大廠需求，邑流微測運用最新雷射感測技術，彙整精密多通流道，以1µm的靈敏度搭配每分鐘 30ml 流速，提供 24 小時不間斷分析監測並即時回傳相關數據。

使用者可依據產線需求，直觀判讀微粒子數量的變化、有效監控水質與處理槽系統的狀態等，不僅有效提升水洗製程的效率，更有助於達到提升良率之效果，加上多點位整合系統可大幅降低設備成本，絕對是微汙染管控的最佳解決方案。

 

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